刘学峰，光学系统与光电材料专业，博士，研究员，千人计划国家特聘专家，四川省百人计划引进人才，成都市高层次创新人才。现工作于中科院光电技术研究所。主要承担精密干涉成像投影波前偏差亚纳米级检测系统研制等项目。
本科就读于武汉理工大学，获材料科学与工程学士。后获材料科学硕士。再以激子掺杂激光载体研究获英国谢菲尔德大学自然科学博士学位。现为国际电子学会（IEEE）、中国光学学会会员。发表论文30来篇，有产品的重大精密光学系统10来个，相关知识产权和专利20来项。
1986-2011年间，在国内参与“七五”光电子攻关分项掺杂光波导研究。在Glasgow DEEE公司进行光栅掩模设计、电子束刻与光刻工艺等研究和在Bookham公司进行宽带高频集成光路研制。在牛津Oxford Cryosystems公司担任偏振与相差成像光学显微分析系统研发部门经理。在光刻在线检测领域著名的纳米公司，领队研制出亚纳米级精度激光散射仪。作为技术负责人，在光刻领域世界领先的ASML公司研制出光瞳矢量特性检测系统，全方位光刻光瞳光学特征测量平台，非理想波前检测模拟工具和调控方法。
刘博士作为我所千人计划专家最近被聘为国家特聘专家。目前刘博士正与所内外专家联合申请和承担各类研究项目和组建相关团队包括悉心尽力培养年轻光学人才，为促进我国精密光学技术的发展而努力工作。 |
